极致的真空环境是euv光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。
不知过了多久！
汪象朝突然大声喊道：“真空度稳定在0. ！”
控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动，有人轻轻握了握拳。
第一步，成功了！
为什么euv光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？
这是因为euv光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。
在真空环境中，可最大限度减少气体分子对euv光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。
若处于非真空环境，euv光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。
这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。
因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。
“启动光源预热，功率设定为最低档位。”
陈延森语气平静地宣布下一道指令。
令人紧张的时刻到来！
这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（mcde-euv光），即将被唤醒！
如果一切正常，它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。
时间一分一秒地过去。
主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。
随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！
“有信号了！”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。
大家心里清楚！
第一台euv光刻机对华国的重大战略意义！
几乎在同一时间，位于光路末端的euv功率探测器，传回了第一条数据： ！
一个在asml看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！
许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。
林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。
陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。
“提高功率档位！”陈延森继续说道。
euv光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的euv光能量触发光刻胶的光化学反应。
若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。
比如 ，产能提升近40%。
技术差一点，就是差了一大截！
