而且这个一代神机直到二十年以后赵长安穿越过来的时候，在长达三十多年的时间里，虽然PAS5500早已停止生产，可经过ASML卖出去的PAS5500依然有超过90%的光刻机在投入使用，用于制造线宽微缩要求不高细分类半导体芯片。
之后数年，随着ASML不断的对PAS5500进行技术改良和升级，引入更高分辨率的i-line、氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF）系统，老东家飞利浦也是赚钱赚的合不拢嘴。
在97年的时候，由飞利浦的牵线，以及欧美半导体产业迫切想要摆脱东洋半导体产业的依赖，老美也盯上了ASML这块肥肉，随着众多企业投资加入，以及成功的在阿姆斯特丹和哥谭市证券交易所上市，ASML开始研究极紫外线，到了99年ASML极紫外线光刻机研发联盟成立，第二年财大气粗的ASML收购了美国光刻机制造商硅谷集团（SVG），在原来的拳头产品PAS5500之外，进入更细微的193纳米领域。
在去年年底的全球SPIE微光刻会议上，由于Nikon和Canon的强势，157nm深紫外激光波（DUV）步进式光刻机的研发主流方向，依然是处于纯氮气中的技术改良。
而没有提倡尝试157nm深紫外激光波，在液体浸没状态下的浸没式光刻技术。
从会议之后到现在，整个ASML的研发部门，依然是各种争吵中，对于157nm浸没式研发是否开始，有着极大的分歧。
