第136章 近接式光刻机成功,集成电路突破!

「在世界半导体领域,应该处于领先地位了。」

听到最后的这句话。

所有人手中的笔,都停了下来。

他们望向实验室操作台上的近接式光刻机,目光恍惚。

——领先。

这个词在华国。

好像已经有一百多年,没有出现。

他们是落后的。

所以挨了很多的打,花了很长的时间,付出了很多的牺牲。

正是因为这血的教训。

他们才要研究、要追赶、要反超!

想到这里。

实验室内的所有人,眼眶都有些微微泛红。

他们,做到了。

王寿吾看向江阳,郑重道:「江教授,我们马上开始集成电路的突破吧!」

「有了它!」

「我相信我们这次一定能够突破100集成度!」

他说完后。

其他研究人员,也是纷纷点头。

光刻机只是开始。

集成电路,才是他们最终的目的。

江阳本来想让众人先庆祝。

但看到他们的表情。

当即颔首道:「好,那幺我们开始吧!」

实验继续。

集成电路所需的材料,早已备齐。

将硅片加工完后。

进入光刻工艺环节,涂胶、曝光、显影和刻蚀。

然后是掺杂。

金属化、测试、封装————

每道工序。

都至少需要3—5天的时间打底。

但没有人喊苦喊累。

整个研究团队,一天24h,20个小时都在实验室。

王寿吾、林岚因和黄坤等主要负责人。

更是完全顾不上休息。

每天在实验室吃饭,休息就去旁边的办公室。

就这样。

用了差不多一个月的时间。

集成电路。

终于成功突破到128集成度!

华科院。

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