第82章 双管齐下,继续推进矽电晶体研制工作!

「汤教授,您请继续。」

闻言,汤定远道:

「江教授为我们介绍过光刻胶的作用。」

「它直接决定。」

「集成电路的最小特征尺寸、良率和工艺复杂度—」

他说完后。

迟疑了片刻。

接下来的话,等于是在反对江阳提出的方案。

这时,江阳笑道:

「汤教授,如果您有更好的方法,但说无妨。」

汤定远点了点头,道:

「那我就直说了。」

「根据我的研究,使用天然沥青+溶剂,解析度极低。」

「最后很大概率无法满足我们的研制需要—」

沥青胶是负性光刻。

紫外线引发交联反应,形成三维网格结构后。

曝光区域变得难溶于溶剂,且会被溶剂渗透,引发溶胀。

虽说面前也能实现光刻。

但结果几乎是可以预见的不如人意。

汤定远说完后,又道:

「原本我也不觉得有问题。」

「毕竟光刻对我们所有人来说,都是个新东西。」

「但江教授的一句话,给了我启发。」

「如果让曝光区域发生光解反应,效果会不会更好——」

听完汤定远的想法后,众人陷入沉思。

江阳面色不变。

心中却惊讶不已,暗道:

「不愧其中,能一句话中想出这幺多的东西。」

汤定远,华国半导体学科创始人之一。

还是红外技术研究的奠基人。

曾以三份书信,重塑华国红外事业的战略眼光,研究能力毋庸置疑。

这时。

下面一个和汤定远差不多年纪的中年男人,道:

「汤教授,您说得确实有道理。」

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