第82章 双管齐下，继续推进硅电晶体研制工作！
次日，早。
江阳刚刚来到半导体实验室。
京机厂那边。
就送来了J5060通过最终测试的消息。
至此。
他们终于拥有了，能够完成制备，且满足光刻要求硅片的设备。
会议室内。
王寿吾正在对这段时间的研究成果，进行总结。
除开J5060外。
采用氧化铝研磨膏+铸铁抛光碟，以及化学腐蚀的方式。
完成了化学机械抛光。
并利用两台显微镜加一个紫外曝光灯，搭建了「土光刻机」。
虽说只能勉强实现10微米的线宽。
但也能满足最低图形解析度的需求。
当然。
也不是所有的研究都一帆风顺。
王寿吾道：
「光刻和扩散，是我们现在面临的两大难题。」
「手工光刻误差太大。」
「而开关扩散的掺杂，不仅存在波动，同一电晶体上的阈值电压差异——」」
他说完后。
众人陷入沉思。
江阳也没有着急开口，而是等待众人讨论。
毕竟他不能什幺都解决。
没过多久。
很快便有人开口，道：
「我认为，可以尝试从光刻胶上取得突破。」
听到他的话。
所有人都下意识地看向江阳。
光刻胶这个概念。
还是江阳提出来的。
在此之前，他们都是以合金法和台面工艺制作电晶体，无需光刻胶。
王寿吾颌首道：
