这些他们一时都搞不明白。
但众人清楚。
既然江阳说出来，至少理论上，已经没有太大的问题。
所以他们要做的，就是事无巨细地将每一个字记下来。
然后再去慢慢实验。
会议一直持续到晚上。
才终于结束。
除了J5060碳化硅砂轮切片机外。
江阳在后面。
还提到化学机械抛光设备、光刻设备和真空镀膜等设备的问题。
这些设备，华国基本都没有。
好在替代的方案，也能满足现有的研究需求。
就是需要牺牲一点质量。
比如化学抛光设备，就可以通过机械抛光+化学腐蚀来替代。
不过对于光刻机。
江阳提出了不一样的要求。
他在最后，道：
「光刻机，是半导体领域的核心设备。」
「它直接决定集成电路的制程工艺和性能机械。」
「所以我建议，成立一个光刻机攻关小组，进行自主设计工作。」
听到这话。
王寿吾、林岚因和黄琨三人，当即表示赞同。
其他人自然更不可能有意见。
不过他们等了半天。
都没等到后续。
这让黄琨忍不住，道：
「江教授，图呢？」
以往江阳说完。
一般都会给出设计草图，哪怕并不完善。
这回，不应该例外才对。
江阳疑惑道：
「什幺图？」
黄琨：
二
