第859章 我平时也在伺候你啊
周六上午10点，吃了个早饭之后，许青舟着急看杨—米尔斯存在性和质量间隙的论文，而是先去一趟研究院。
胡静璇早上就发消息过来，说新材料的测试出来了。
材料研究所。
许青舟进入办公室的时候，见胡组长正低头盯着电脑：「数据出来了？」
「嗯，但..」
胡静璇叹了口气，把列印的报告单递给许青舟：「我们预测的氚渗透率数据为小于1.0×10—12mo1H20·m1·s1，可实际实验数据为8.5×109mol
H20·m1·s1。」
「而且，观察到大量微米级龟裂和局部起泡、剥落。您看这个截面情况，层间界面发生严重互扩散，W层与AIN层之间形成~20nm厚的W—AI—N三元扩散层，清晰的纳米结构完全模糊化。」
许青舟翻开报告，总算知道为啥实验室里大家情绪都不怎幺高。
在此之前，大伙）儿对ATPC—O1（钨—氮化铝多层纳米涂层）抱有非常高的期望，觉得在抗氚渗透上有奇效。
许青舟视线从一行行数据上滑过。
坦白来说，ATPC—01的设计理念还算先进，瞄准了小型化堆芯更严苛的工作环境，试图结合几种材料的优势来突破传统涂层的局限。
钨（W）和氮化铝（AIN）的热膨胀系数存在差异，在650°C的持续高温和15MW/m的热循环冲击下，涂层内部产生了巨大的热应力。
许青舟很快发现问题，沉声说道：「我们低估了钨（W）和氮化铝（AIN）两种材料在界面处的热力学不稳定性，他们在小型化、高功率密度工况下，热—力—
化学三种效应的协同放大作用。」
「是的。」
胡静璇点了点头：「W和AIN之间发生了严重的互扩散，形成了一个结构疏松、缺陷密集的W—AI—N三元扩散层。这个扩散层非但没能阻止氚，反而成了氚快速渗透的高速公路」。」
「没错，扩散层结构疏松、缺陷密度极高。」一个戴眼镜的青年表情沮丧。
