“光刻机所牵扯的领域很多，其中光源，光学，工作平台是最基础的三大系统，掩膜版，光刻胶，辅助测量聚焦环境传输系统，——”
苏博说了一堆在马丁和斯维拉克听着是废话的话，其实他是在和赵长安王渝讲解，然后说道：“对于氟化氩气体193nm激光源通过折射得到等效于134nm光源，我没有什么异议，然而在液体环境里和气体介质中，流体阻力相差12倍，而且对于不同环境下的光刻胶和掩膜版曝光的技术要求，也会有着很大的区别。”
“这个确实是一些难题，不过就像Nikon和Canon的研发一样，在193nm层面这些问题他们也许可以解决，然而到了157nm，很多同样不比134nm水介质条件下光刻胶和掩膜版的曝光技术问题更容易的问题，也同样会出现摆在他们面前。”
马丁知道眼前这个三十多岁的中国人提出的问题，是至少现在134nm所面临的几个非常棘手，也必须得攻克的难题，虽然他有信心相信一定能够找到一种合适的解决方案，然而这个合适的解决方案具体是什么，他现在当然也是根本就不知道。
不过这也是他们ASML现在得不到英特尔这些企业豪爽投资的重要原因，要是他知道了解决方案，哪里还需要这么热情和费劲的接待这个投资团队。
苏博点点头，知道马丁说的这些话等于啥都没有说。
然而这也是无所谓的事情，现在老板是不管ASML能不能研发出来浸没式步进机，他都是铁了心的要投资砸钱，而他也觉得就算ASML最终研发浸没式步进机失败，这笔投资也是值得的事情。
只不过要用这些话表示一纳米北美团队并不是真的什么都不懂，而是相信他们ASML的技术能力，愿意和他们一起豪赌。
