当时的山口只是觉得领导都是最好的演员，他们能在不同的场合戴上合适的面具，不太明白对方话中的意思。
谁是麦克阿瑟？4v又怎么了？
一年后的今天，他完全懂了，那位名叫约翰·亚当斯·摩根的家伙，一方面和华国联手收割台股和资本市场，一方面在让霓虹半导体产业自掘坟墓。
在山口看来，也许唯一的好消息是，华国人也要一头钻进nil光刻机这个大坑里去。
华国突破消息传来的当天下午，研发总监召集了所有核心工程师。
会议室的气氛比任何一次光刻机故障都要压抑。
研发总监直接切入正题：“华国市场对我们7nm光刻胶和精密研磨液的订单，下季度被要求削减25%。”
房间里一片死寂。
25%的削减，意味着数十亿日元的损失，更意味着华国本土的材料供应商，正在以一种超乎预期的速度进入核心产线。
“但这不可能，”有人忍不住反驳，“华国本土光刻胶的杂质控制在7nm良率上根本过不了关！”
总监叹了口气，推了推眼镜，将一份报告投影到屏幕上。
“问题不在这里。
这份报告来自我们的情报部门。
华国政府正在对使用本土材料的晶圆厂，提供高额的良率损失补贴。
他们放弃了短期的盈利，用国家的力量在强制迭代本土材料的质量。”
他目光扫过所有人，语气变得无比沉重：“我们卖给他们的 。
千代田是错的，他们太高估了我们的控制能力。
他们以为控制了euv设备，华国就没有办法翻出浪，实际上大错特错。”
哪怕在私下，霓虹人也不敢指责白宫。
“先生们，我们的优势不再是不可取代，而是难以快速取代。
现在，华国已经向全世界证明，这个快速的时限，居然只有一年。”
从那天起，山口的研发任务发生了彻底的转变。
过去，他们的工作是精益求精，将现有光刻胶的纯度提升到小数点后更多位，优化其曝光均匀性。
现在，上级要求他将重心完全转向技术突破。
在他的实验记录本首页，他用红笔写下了新的目标：
下一代euv材料，交付时间提前一年。
目标：必须实现五年内无法被模仿的全新化学结构和制备工艺。
山口意识到，他现在是在和时间赛跑，和一个国家机器的投入赛跑。
光刻胶的纯度关乎着霓虹在全球半导体供应链中的阵地。
