第231章 历史性时刻,命名逐光【二合一求订阅】

甚至下意识念出声来。

「辐射出的光源波长,依旧为13.5纳米,属于极紫外光波段。」

「输出光源稳定在80瓦————」

「120瓦————

,「200瓦——

「250瓦,我们验证成功了!」

随着期望的数字终于出现,在声音落下瞬间,制室内顿时爆发出热烈的掌声,庆祝这一里程碑式重要时刻。

「我早就说过,徐总师的方案没问题。」贺鹏涛待大家的掌声落下,擡手轻擦了下湿润的眼角,毫不掩饰堆在脸上的喜悦之情。

旁边的丁顺安,同样内心激动不已。

视线依旧锁定在那台毫米级演示装置上,心情复杂连连感慨。

「从我国开始重点研究光刻机,到现在多少年了,总算实现了可商用的,足以领先世界的核心光源系统,我这辈子没啥遗憾喽。」

「才只是成功验证了核心光源系统,你就没遗憾了,起码也要看到咱们的极紫外光刻机问世。」贺鹏涛笑着接过话茬,跟在丁顺安后面补充了两句。

丁顺安附和道:「有徐总师在,这是迟早的事。」

说完两人转头看向徐铭。

「徐总师,请允许我代表所有光机所人员,由衷向你表示感谢。」贺鹏涛最先开口道:「没有你的物理理论,我们根本不可能这幺快,便攻克稳定功率的极紫外光源。」

「仅这一项理论成果,就起码让咱们少走了几年,甚至十几年的弯路。」丁顺安也没沉默。

面对两位院士的如此称赞,徐铭反应更快,连忙出声回应。

「两位院士言重了,既然这个担子交给我,那我自然会尽最大努力做好。」

「何况后面还有更重要的工作,需要我们大家完成。」

把热烈氛围推向高峰。

接下来的时间,实验室交给了潘耀负责。

继续进行光源实验,好记录更加详细的数据,用于之后极紫外光刻机核心光源系统的组装。

徐铭则和贺鹏涛与丁顺安两位院士,来到办公室安排后续工作。

「下一步我们微电子装备,就会正式把新的极紫外光源技术,应用到光刻机的核心光源系统上,另外双工件台控制系统和计量检测系统,也都在同步的攻坚中,这些年集团的研究可不是一点成果没有。」

办公室内丁顺安首先发言,在讲到最后一句时,能感受到话语中的自信。

春城光机所擅长光刻机的核心光源系统,微电子装备却是主攻其他部件技术O

尤其作为国产光刻机主力研发团队,肯定在部分领域也有着独到之处,甚至并不落后海外技术多少。

如今最困难的极紫外光源被顺利解决,就好比在两截道路中间的大山中,打通了一条可通行的隧道,当车辆全速行驶起来,距离终点站又岂会远。

贺鹏涛虽来自春城光机所,但对于微电子装备方面的研究还是比较认可的。

尤其现在还进行了资源整合。

闻言也当即讲出自己的看法和决心。

「眼下我们有了极紫外光源,并且还是比轰击锡滴更加高效容易的技术,根据国内技术整体评估,我看最多两年时间,就能成功组装出首台国产极紫外光刻机。」

「阿斯麦公司的新一代极紫外光刻机,恐怕也会在两三年时间内发布。」丁顺安想到什幺接过话茬补充。

贺鹏涛笑呵呵回复句。

「那就刚好比一比,看看谁的极紫外光刻机,综合性能更加领先。」

徐铭听完两人的对话,嘴角也不由得微微上扬,对阿斯麦公司的光刻机,还真涌现出些许期待。

他也想看看,采用了全新物理现象理论,研发出的极紫外光刻机究竟能达到何种水准。

估摸着拿下阿斯麦在行业中的地位,恐怕不会太难。

思维思忖至此,他很快轻微摇了下头,暂时把这件事抛在脑后,主动提起接下来的正事。

「后续极紫外光刻机的研发,就还拜托贺院和丁院来坐镇负责了,如果遇到什幺技术瓶颈的话,随时通知我参加研讨会商议解决方案。」

「等璇玑系统的开发稳定后,我会多关注这边的。」

目前全新随机几何分析框架的构建,正值最后的关键几个证明步骤。

等完成此理论,便能正式着手开发新的算法。

在这种情况下,他肯定不能逗留在微电子装备,今天下午就要赶回燕京继续推导。

主要璇玑系统和光刻机,都是高端晶片制造产业链中的重要环节,只不过一个属于前端一个属于后端。

想实现百分之百国产化升级,就必须把璇玑系统和国产极紫外光刻机,同时研发出来才行,否则单独离开哪项都无法发挥出自身的作用。

无论贺鹏涛还是丁顺安,他们自然都清楚,璇玑系统的重要性。

不过在听完徐铭这番话之后,互相对视一眼,依旧能看出彼此瞳孔中的疑惑。

本以为徐铭选择把精力放在新一代EDA上,只是藉助总设计师的身份,好让国内EDA公司更好整合技术,加快全新一代极紫外光EDA工具算法问世。

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