「巧了，我们也是这幺想的。」
他说完后。
便立刻转过身，让人照做。
瞩附完后，又回来和江阳继续讨论。
硅电晶体制造的流程很长。
从单晶切割、机械抛光、化学清洗。
到干氧氧化、光刻与图形化，掺杂PN结。
每个步骤。
都要花上数个小时的功夫。
而且整个过程。
并不是一帆风顺。
比如掺杂PN结时，没有离子注入机，开关扩散掺杂浓度波动有土30%。
这个数字，显然是不能接受的。
因此必须通过经验修正。
当然，江阳他们现在没有经验，所以足足失败了好几次。
才勉强得到一个理想的数据，继续进行试验。
不过这时候。
一天的时间，也就这幺过去了。
接下来。
半导体研究室，就是不断地重复实验。
在三天后。
吸取数次失败的经验教训，众人终于做出成果。
实验室内。
王寿吾眼角带笑，正想跟宣布这个好消息。
忽然看到坐在边上喝茶的江阳。
他走上前，道：
「江教授，要不您来说罢。」
说着。
王寿吾将手中的实验结果报告，递了出去。
虽说江阳一直是技术总顾问的身份参与研究。
但在他的心中。
就是硅电晶体研究的技术负责人。
江阳看着报告，道：
「其实还是有很多不足的。」
「在实验过程中。」
「出现了光刻图形失真、扩散结深失控和金属电极失效等问题—.—」
